中国光刻机研发回忆录（1）

前言
笔者从事光刻机研发历程10年，而今已脱离光刻机项目，虽然还在半导体装备行业，但已经脱离了保密协议规定的技术保密期，所以有关行业的内幕和历程可以透露一些。更多的是本人自己的回忆录，不会涉及技术机密。笔者只是从一个基层研发人员谈谈中国光刻机研发历程中的一个小点，毕竟只有10年工作经验不可能成为光刻机研发项目的大领导。而且因为公司的调动，我已脱离该项目多年。所以脱离前我只负责到分系统层面，更大的产品层面是我考虑不到的。
之所以写这个回忆录，是因为网上骗子很多，好多自称ASML的研发工程师@是俗不可耐，在网上造谣。实则大量自媒体通过东平西凑的信息博眼球。这类科技新闻又很难辟谣，因为关键技术和研发进展是国家保密的。所以网上大部分的新闻都是夸大的假新闻，或者是严重过时的。因为就连国家领导人也是最近才开始每周听取一次进展汇报，网络自媒体怎么可能对项目进展了如指掌呢？大多只是盲人摸象罢了。
光刻机项目属于国家十一五计划重大专项，这个已经是众所周知了。但这个专项不仅仅包括光刻机，光刻机只是其中一小部分。参与单位上百个，不过我司参与的是整机。它属于半导体装备行业。这个行业的前三是应用材料，东京电子和ASML。但是半导体设备如果细分到光刻机，ASML垄断了前道光刻机设备，后道和TFT还有其他公司在做，ASML只做FRONT END。排行第二的NIKON只有10%多一点的份额。ASML在世界有6000员工，在中国只有几百人，主要是售后SUPPORT为主，研发总部在荷兰。
所以如果网上有大佬自称是ASML研发光刻机的，要么他在荷兰，要么就是吹牛。